Study of leakage mechanisms of the copper/Black Diamond™ damascene process

10.1016/j.tsf.2004.05.051

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Yiang, K.Y., Guo, Q., Yoo, W.J., Krishnamoorthy, A.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/57538
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore