Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization
Applied Surface Science
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Hong, M.H., Lu, Y.F., Ho, T.M., Lu, L.W., Low, T.S. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80414 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Characteristics of excimer laser induced plasma from an aluminum target by spectroscopic study
بواسطة: Lu, Y.-F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Galvanostatic pulse deposition of hydroxyapatite for adhesion to titanium for biomedical purposes
بواسطة: Blackwood, D.J., وآخرون
منشور في: (2014) -
Deposition of crystal polythiophene thin films by KrF excimer laser ablation
بواسطة: Lu, Y.F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Substrate temperature dependence of photoresponse and crystal phases of TiO2 deposited via dual planar magnetron
بواسطة: Villamayor, Michelle Marie S., وآخرون
منشور في: (2014) -
Magnetic field generation at early-stage KrF excimer laser ablation of solid substrates
بواسطة: Hong, M.H., وآخرون
منشور في: (2014)