A comparative study of HfTaON/SiO2 and HfON/SiO2 gate stacks with TaN metal gate for advanced CMOS applications
10.1109/TED.2006.888669
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/81846 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
الملخص: | 10.1109/TED.2006.888669 |
---|