Effects of microtrenching from polysilicon gate patterning on 0.13μm MOSFET device performance

International Symposium on IC Technology, Systems and Applications

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Chua, C.S., Chor, E.F., Yu, J., Pradeep, Y., Chan, L.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83681
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore