Improvement of Rayleigh criterion with duty ratio characterization for subwavelength lithography

• المؤلفون الرئيسيون: Chua, G.S., Tay, C.J., Quan, C., Lin, Q.
• مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/85295

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures