Study of diffusion barrier properties of ternary alloy (TixAlyNz) in Cu/TixAlyNz/SiO2/Si thin film structure

10.1016/S1369-8001(00)00031-7

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Lee, Y.K., Latt, K.M., Osipowicz, T., Sher-Yi, C.
مؤلفون آخرون:	PHYSICS
التنسيق:	مقال
منشور في:	2014
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/98085
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

الوصف
الملخص:	10.1016/S1369-8001(00)00031-7

مواد مشابهة