Effect of helium incorporation on plasma parameters and characteristic properties of hydrogen free carbon films deposited using DC magnetron sputtering
© 2020 Author(s). The present work investigates the effects of helium (He) gas mixing with Ar on plasma parameters and examines its effect on film properties of C films. We used a closed-field unbalanced magnetron sputtering system for the deposition of C thin films at a direct current power density...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | دورية |
| منشور في: |
2020
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=85077506949&origin=inward http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/68583 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|