Investigation of metal-organic chemical vapor deposited copper diffusion in tantalum after annealing

• المؤلفون الرئيسيون: Loh, S.W., Zhang, D.H., Liu, R., Li, C.Y., Wee, A.T.S.
• مؤلفون آخرون: INSTITUTE OF ENGINEERING SCIENCE
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/116746
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1109/SPI.2002.258308