OPC mask simplification using over-designed timing slack of standard cells

OPC mask simplification using over-designed timing slack of standard cells

10.1117/12.2018921

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Qu, Y., Heng, C.H., Tay, A., Lee, T.H.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الموضوعات:
Circuit performance
Design for manufacturability (DFM)
Mask
Optical proximity correction (OPC)
Timing slack
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/71264
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

مواد مشابهة