Radiation and electrical stress-induced hole trap-assisted tunneling currents in ultrathin gate oxides

• المؤلفون الرئيسيون: Ang, C.-H., Ling, C.-H., Cho, B.-J., Kim, S.-J., Cheng, Z.-Y.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/81038

10.1016/S0038-1101(00)00156-8