Improvement on lithography pattern profile by plasma treatment

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

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書目詳細資料
Main Authors: Soo, C.P., Bourdillon, A.J., Valiyaveettil, S., Huan, A., Wee, A., Fan, M.H., Ang, T.C., Chan, L.H.
其他作者: PHYSICS
格式: Article
出版: 2014
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/94011
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