Realization and simulation of high-aspect-ratio micro/nanostructures by proton beam writing

• المؤلفون الرئيسيون: Valamontes, E., Chatzichristidi, M., Tsikrikas, N., Goustouridis, D., Raptis, I., Potiriadis, C., Van Kan, J.A., Watt, F.
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: High-aspect-ratio; Lithography; Proton beam writing; Resist stripping
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/97767
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1143/JJAP.47.8600