Simplified Assembly of Through-Silicon-Via Integrated Ion Traps

The scalability of surface electrode ion traps has been progressively improved with the on-chip integration of conventionally bulk components. Based on the development of through silicon via (TSV) integrated ion trap, in this work, we further simplify the back-end assembly process by patterning...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Zhao, Peng, Li, Hong Yu, Likforman, Jean-Pierre, Henner, Theo, Lim, Yu Dian, Hu, Liang Xing, Seit, Wen Wei, Luca, Guidoni, Tan, Chuan Seng
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2023
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/170177
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!