Residual stress measurement in thin films at sub-micron scale using Focused Ion Beam milling and imaging
10.1016/j.tsf.2011.10.211
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/61229 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |