Effects of nitric-oxide-plasma treatment on the electrical properties of tetraethylorthosilicate-deposited silicon dioxides on strained-Si1-xGex layers

Applied Physics Letters

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Senapati, B., Samanta, S.K., Maikap, S., Bera, L.K., Maiti, C.K.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80378
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة