Formation of sige nanocrystals in HfO 2 using in situ chemical vapor deposition for memory applications

• المؤلفون الرئيسيون: Gupta, R., Yoo, W.J., Wang, Y., Tan, Z., Samudra, G., Lee, S., Chan, D.S.H., Loh, K.P., Bera, L.K., Balasubramanian, N., Kwong, D.-L.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82378
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1063/1.1758297