Schottky source/drain transistor on thin SiGe on insulator integrated with HfO2/TaN gate stack

• المؤلفون الرئيسيون: Gao, F., Lee, S.J., Li, R., Balakumar, S., Tung, C.-H., Chi, D.-Z., Kwong, D.-L.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/84160
• المؤسسة: National University of Singapore

Materials Research Society Symposium Proceedings