Fast and blister-free irradiation conditions for cross-linking of PMMA induced by 2 MeV protons
For soft lithography, the conventional negative tone resists, such as SU-8, that are used to create the mold have a number of drawbacks. PMMA, which is normally used as a positive tone resist, can be used as a negative resist by using high-fluence irradiation conditions. In this report, we outline o...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | دورية |
| منشور في: |
2018
|
| الوصول للمادة أونلاين: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84869083589&origin=inward http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/48137 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Chiang Mai University |