Dopant profile extraction by inverse modeling of scanning capacitance microscopy using peak dC/dV
International Conference on Solid-State and Integrated Circuits Technology Proceedings, ICSICT
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Hong, Y.D., Yan, J., Wong, K.M., Yeow, Y.T., Chim, W.K. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/70006 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Monitoring Oxide Quality Using the Spread of the dC/dV Peak in Scanning Capacitance Microscopy Measurements
بواسطة: Chim, W.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Dopant extraction from scanning capacitance microscopy measurements of p-n junctions using combined inverse modeling and forward simulation
بواسطة: Chim, W.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Accurate modeling of the effects of fringing area interface traps on scanning capacitance microscopy measurement
بواسطة: Hong, Y.D., وآخرون
منشور في: (2014) -
Influence of interface traps and surface mobility degradation on scanning capacitance microscopy measurement
بواسطة: Hong, Y.D., وآخرون
منشور في: (2014) -
Dielectric characterization and dopant profile extraction using scanning capacitance microscopy
بواسطة: WONG KIN MUN
منشور في: (2010)