Numerical prediction of the etched profile in pyrolytic laser etching of silicon and gallium arsenide
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Wee, T.-S., Lu, Y.-F., Chim, W.-K. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80845 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Numerical prediction of etched profile in pyrolytic laser etching
بواسطة: Wee, T.S., وآخرون
منشور في: (2014) -
Fabrication of porous silicon channel waveguides with multilayer Bragg cladding
بواسطة: Bettiol, A.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
Experimental and numerical investigation of the surface reliefs formed on a moving silicon substrate by pulses of a Gaussian laser
بواسطة: Wee, T.-S., وآخرون
منشور في: (2014) -
CHARACTERISATION AND DETERMINATION OF THE ETCHING PROFILE OF VIA/TRENCH OF SI-BASED PHOTONIC CRYSTAL
بواسطة: ONG KNG YIH
منشور في: (2019) -
Low-power, low-pressure reactive-ion etching process for silicon etching with vertical and smooth walls for mechanobiology application
بواسطة: Ashraf, M, وآخرون
منشور في: (2020)