FOTOLUMINESENSI FILM TINS GALIUM NITRIDA YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE PLASMA ENHANCED METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
<b></i>Abstract:</b><i><p align=\"justify\"> <br /> Gallium Nitride is a direct band-gap semiconductor with Eg=3,4 eV. Therefore it potential, in optoelectronic applications, such as light emitting diodes and lasers operating in the blue-violet region....
Saved in:
Main Author: | Indarsih, Tri |
---|---|
Format: | Theses |
Language: | Indonesia |
Online Access: | https://digilib.itb.ac.id/gdl/view/5010 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institution: | Institut Teknologi Bandung |
Language: | Indonesia |
Similar Items
-
STUDI STRUKTUR KRISTAL FILM TIPIS GALIUM
NITRIDA DITUMBUHKAN DENGAN REAKTOR
PLASMA ASSISTED MOCVD
by: Suparta, Wayan -
Kajian teoritis ragam polariton eksiton dalam bahan Semikonduktor Galium Nitrida (GaN)
by: , YUNIANTO, Mohtar, et al.
Published: (2006) -
ANALISIS KINETIKA DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZNO YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DAN METODE ATOMIC LAYER DEPOSITION
by: Setiawan (NIM 20296501), Agus -
OTOMATISASI SISTEM PENGUKURAN EFEK HALL DAN APLIKASINYA PADA PENENTUAN PARAMETER ELEKTRONIK FILM TIPIS GALIUM NITRIDA
by: Setyarsih, Woro -
Sifat Listrik Dan Optik Dari Lapisan Tipis ZnO:B Yang Ditumbuhkan Dengan Metode Metalorganic Chemical Vapor Deposition
by: Perpustakaan UGM, i-lib
Published: (2003)