Reactive sputtering of CoZrTaOx thin films
As a novel metal oxide material with promising electrical properties, CoZrTaOx (OCZT) requires precise control of conditons in the reactive sputtering process to ensure that deposited thin films demonstrate stable and favorable qualities. As the properties of OCZT thin films to process conditions is...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Zheng, Cheng |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Gan Chee Lip |
التنسيق: | Final Year Project |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nanyang Technological University
2022
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/159239 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
Ordered boron nitride thin film growth with reactive magnetron sputtering
بواسطة: Loh, Li Quan
منشور في: (2017) -
Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films
بواسطة: Xu, S., وآخرون
منشور في: (2012) -
Performance enhancement of transparent amorphous IGZO thin-film transistor realized by sputtered amorphous AlOx passivation layer
بواسطة: Li, Yuanbo, وآخرون
منشور في: (2022) -
Development of sputtered SrBi2Ta2O9 thin films for nonvolatile random access memory application
بواسطة: Li, Yibin
منشور في: (2008) -
A study on the orientated growth, microstructure and thermal conductivity of RF reactively sputtered AIN films
بواسطة: Cheng, Hao
منشور في: (2008)