Effects of volatility of etch by-products on surface roughness during etching of metal gates in Cl2

Effects of volatility of etch by-products on surface roughness during etching of metal gates in Cl2

10.1149/1.2799079

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Hwang, W.S., Cho, B.-J., Chan, D.S.H., Lee, S.W., Yoo, W.J.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	مقال
منشور في:	2014
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/55785
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

Effects of SiO2/Si3N4 hard masks on etching properties of metal gates
بواسطة: Hwang, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Investigation of etching properties of metal nitride/high-k gate stacks using inductively coupled plasma
بواسطة: Hwang, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Study of roughness evolution during reactive ion etching
بواسطة: Santosh Kumar Pani
منشور في: (2010)

Effects of poly-Si annealing on gate oxide charging damage in Poly-Si gate etching process
بواسطة: Chong, D., وآخرون
منشور في: (2014)

In situ trench etching and releasing technique of high aspect ratio beams using magnetically enhanced reactive ion etching
بواسطة: Kok, K.W., وآخرون
منشور في: (2014)

Formation of polycrystalline silicon germanium/HfO2 gate stack structure using inductively coupled plasma etching
بواسطة: Chen, J., وآخرون
منشور في: (2014)

Vertical etching with isolated catalysts in metal-assisted chemical etching of silicon
بواسطة: Lianto, P., وآخرون
منشور في: (2014)

Chemical analysis of etching residues in metal gate stack for CMOS process
بواسطة: Wan, S.H., وآخرون
منشور في: (2014)

TMAH etching of silicon and the interaction of etching parameters
بواسطة: Thong, J.T.L., وآخرون
منشور في: (2014)

Inductively coupled plasma etching of GaN using BCl3/Cl2 chemistry and photoluminescence studies of the etched samples
بواسطة: Remashan, K., وآخرون
منشور في: (2014)

Integrated process of photoresist trimming and dielectric hard mask etching for sub-50 nm gate patterning
بواسطة: Bliznetsov, V., وآخرون
منشور في: (2014)

Characterization of Si(100) surface after high density HBr/Cl2/O2 plasma etching
بواسطة: Low, C.H., وآخرون
منشور في: (2014)

Study on etching and characterization of advanced gate stack
بواسطة: TAN KIAN MING
منشور في: (2011)

Mechanics of catalyst motion during metal assisted chemical etching of silicon
بواسطة: Lai, C.Q., وآخرون
منشور في: (2014)

Effect of smear layer and surface roughness on resin-dentin bond strength of self-etching adhesives
بواسطة: Pipop Saikaew, وآخرون
منشور في: (2019)

Etching of TiN-based gates for advanced complementary metal-oxide- semiconductor devices
بواسطة: Bliznetsov, V., وآخرون
منشور في: (2014)

Evolution of hillocks during silicon etching in TMAH
بواسطة: Thong, J.T.L., وآخرون
منشور في: (2014)

Numerical prediction of etched profile in pyrolytic laser etching
بواسطة: Wee, T.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Investigation of wet etching properties and annealing effects of Hf-based high-k materials
بواسطة: Chen, J., وآخرون
منشور في: (2014)

Surface engineering of metals via metallographic etching for microstructural characterization
بواسطة: Jain, Ekta
منشور في: (2021)

Formation of pyramids at surface of TMAH etched silicon
بواسطة: Choi, W.K., وآخرون
منشور في: (2014)

Direct trim etching process of Si/SiO2 gate stacks using 193 nm ArF patterns
بواسطة: Tan, K.M., وآخرون
منشور في: (2014)

Metal carbides for band-edge work function metal gate CMOS devices
بواسطة: Hwang, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Characterization of inductively coupled plasma etched surface of GaN using Cl2/BCl3 chemistry
بواسطة: Tripathy, S., وآخرون
منشور في: (2014)

Investigations on the morphology of silicon surfaces anisotropically etched with TMAH
بواسطة: Thong, J.T.L., وآخرون
منشور في: (2014)

Investigation of etching properties of HfO based high-K dielectrics using inductively coupled plasma
بواسطة: Chen, J., وآخرون
منشور في: (2014)

Numerical prediction of the etched profile in pyrolytic laser etching of silicon and gallium arsenide
بواسطة: Wee, T.-S., وآخرون
منشور في: (2014)

A comparison of the selective etching characteristics of conventional and low-temperature-grown GaAs over AlAs by various etching solutions
بواسطة: Zhao, R., وآخرون
منشور في: (2014)

Reactive ion etching of transition-metal alloys
بواسطة: Akinaga, Hiro, وآخرون
منشور في: (2006)

In-line plasma induced charging monitor for 0.15μm polysilicon gate etching
بواسطة: Chong, D., وآخرون
منشور في: (2014)

Low-contact-resistance graphene devices with nickel-etched-graphene contacts
بواسطة: Leong, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Effect of thermocycling on the durability of etch-and-rinse and self-etch adhesives on dentin
بواسطة: Ketkamon Sangwichit, وآخرون
منشور في: (2018)

The coalescence and etching of metal nanostructures via solution approach
بواسطة: Tan, Rachel Lee Siew
منشور في: (2016)

METAL ASSISTED CHEMICAL ETCHING OF SEMICONDUCTORS FOR ELECTRONICS APPLICATION
بواسطة: KONG LINGYU
منشور في: (2017)

Investigation of in situ trench etching process and Bosch process for fabricating high-aspect-ratio beams for microelectromechanical systems
بواسطة: Kok, K.W., وآخرون
منشور في: (2014)

A Feasibility study on the glass etched clock by Etch R' Us, Corporation
بواسطة: Aldave, Mark Anthony Chavez, وآخرون
منشور في: (1997)

Wet etching of glass
بواسطة: Iliescu, C., وآخرون
منشور في: (2014)

Exposure of defects in GaN by plasma etching
بواسطة: Choi, H.W., وآخرون
منشور في: (2014)

Mechanism and Catalyst Stability of Metal-Assisted Chemical Etching of Silicon
بواسطة: PRAYUDI LIANTO
منشور في: (2013)

Etched nanoholes in graphitic surfaces for enhanced electrochemistry of basal plane
بواسطة: An, Hongjie, وآخرون
منشور في: (2018)