Plasma assisted deposition of Ti-Si-N and Ti-Si-N-O diffusion barrier films
216 p.
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Theses and Dissertations |
| منشور في: |
2010
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/35963 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|