Characterization of silicon nanocrystals embedded in SiO2 matrix
In this thesis, we have synthesized Si nanocrystals (nc-Si) embedded in SiO2 films by implanting Si+ into SiO2 films that are thermally grown on Si substrates.
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Liu, Yang |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Chen Tupei |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/4750 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Thermal annealing effect on the band gap and dielectric functions of silicon nanocrystals embedded in SiO2 matrix
بواسطة: Ding, Liang, وآخرون
منشور في: (2010) -
Static dielectric constant of isolated silicon nanocrystals embedded in a SiO2 thin film
بواسطة: Ng, Chi Yung, وآخرون
منشور في: (2010) -
Visualizing charge transport in silicon nanocrystals embedded in SiO2 films with electrostatic force microscopy
بواسطة: Lau, Hon Wu, وآخرون
منشور في: (2010) -
Influence of silicon-nanocrystal distribution in SiO2 matrix on charge injection and charge decay
بواسطة: Tseng, Ampere A., وآخرون
منشور في: (2010) -
Influence of nanocrystal size on optical properties of Si nanocrystals embedded in SiO2 synthesized by Si ion implantation
بواسطة: Tan, M. C., وآخرون
منشور في: (2010)