Leakage suppression of gated diodes fabricated under low-temperature annealing with substitutional carbon Si1-yCy incorporation
10.1109/LED.2005.845501
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Tan, C.F., Chor, E.F., Lee, H., Liu, J., Quek, E., Chan, L. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82616 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Enhancing leakage suppression in carbon-rich silicon junctions
بواسطة: Tan, C.F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Defect suppression of indium end-of-range during solid phase epitaxy annealing using Si1-yCy in silicon
بواسطة: Tan, C.F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Carbon rich silicon (Si1-yCy)for defect engineering of ion implantation damage in devices activated by solid phase epitaxy
بواسطة: TAN CHUNG FOONG
منشور في: (2010) -
The effects of carbon incorporation during GSMBE of Si1-yCy and Si1-x-yGexCy: Growth dynamics and segregation
بواسطة: Price, R.W., وآخرون
منشور في: (2014) -
Phosphorus implant for S/D extension formation: Diffusion and activation study after spacer and spike anneal
بواسطة: Yeong, S.H., وآخرون
منشور في: (2014)