Microwave remote plasma enhanced-atomic layer deposition system with multicusp confinement chamber
© 2014 AIP Publishing LLC. A microwave remote Plasma Enhanced-Atomic Layer Deposition system with multicusp confinement chamber is established at the Plasma and Beam Physics research facilities, Chiang Mai, Thailand. The system produces highly-reactive plasma species in order to enhance the depositi...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | A. Dechana, P. Thamboon, D. Boonyawan |
---|---|
التنسيق: | دورية |
منشور في: |
2018
|
الوصول للمادة أونلاين: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84908431286&origin=inward http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/44955 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Chiang Mai University |
مواد مشابهة
-
Microwave remote plasma enhanced-atomic layer deposition system with multicusp confinement chamber
بواسطة: A. Dechana, وآخرون
منشور في: (2018) -
Qualifying ultrathin alumina film prepared by plasma-enhance atomic layer deposition under low temperature operation
بواسطة: Bootkul D., وآخرون
منشور في: (2017) -
Qualifying ultrathin alumina film prepared by plasma-enhance atomic layer deposition under low temperature operation
بواسطة: D. Bootkul, وآخرون
منشور في: (2018) -
Qualifying ultrathin alumina film prepared by plasma-enhance atomic layer deposition under low temperature operation
بواسطة: D. Bootkul, وآخرون
منشور في: (2018) -
Characteristics of a 13.56 Mhz radiofrequency-driven multicusp ion source
بواسطة: Boonyawan D., وآخرون
منشور في: (2014)