Implementation of multiple band gaps of quantum wells/dots based on inductively-coupled argon plasma technique
Recently, defect-enhanced interdiffusion, known as intermixing, has been extensively investigated on a wide range of III-V semiconductor quantum well (QW) and quantum dot (QD) structures as a postgrowth process to implement multiple band-gap engergies across a single substrate for monolithic integra...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Dong, Nie |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Wang Yixin |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2010
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/39929 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Halftoning band gap of InAs/InP quantum dots using inductively coupled argon plasma-enhanced intermixing
بواسطة: Xu, C. D., وآخرون
منشور في: (2010) -
Improving crystal quality of InGaAs/GaAs quantum dots by inductively coupled Ar plasma
بواسطة: Zhang, X. H., وآخرون
منشور في: (2010) -
Argon plasma exposure enhanced intermixing in an undoped InGaAsP/InP quantum-well structure
بواسطة: Tang, Xiaohong, وآخرون
منشور في: (2010) -
Optimization and comparison of argon plasma-induced quantum well intermixing using RIE and ICP
بواسطة: Leong, Daniel Woon Loong.
منشور في: (2008) -
Analysis of perovskite oxide etching using argon inductively coupled plasmas for photonics applications
بواسطة: Guanyu Chen, وآخرون
منشور في: (2021)