Optimal predictive control with constraints for the processing of semiconductor wafers on bake plates
10.1109/66.827348
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Ho, W.K., Tay, A., Schaper, C.D. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/62560 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Constraint feedforward control for thermal processing of quartz photomasks in microelectronics manufacturing
بواسطة: Tay, A., وآخرون
منشور في: (2014) -
Integrated bake/chill system for across-wafer temperature uniformity control in photoresist processing
بواسطة: Chua, H.T., وآخرون
منشور في: (2014) -
Optimal control of conductive heating systems for microelectronics processing of silicon wafers and quartz photomasks
بواسطة: Ho, Weng Khuen, وآخرون
منشور في: (2014) -
Wafer warpage detection during bake process in photolithography
بواسطة: YANG KAI
منشور في: (2010) -
Real-time control of photoresist thickness uniformity during the bake process
بواسطة: Lay, Lee Lay, وآخرون
منشور في: (2014)