Silane-ammonia surface passivation for gallium arsenide surface-channel n-MOSFETs
10.1109/LED.2008.2010831
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Chin, H.-C., Zhu, M., Liu, X., Lee, H.-K., Shi, L., Tan, L.-S., Yeo, Y.-C. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83019 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
In situ surface passivation and CMOS-compatible palladium-germanium contacts for surface-channel gallium arsenide MOSFETs
بواسطة: Chin, H.-C., وآخرون
منشور في: (2014) -
Silane and ammonia surface passivation technology for high-mobility In 0.53Ga0.47As MOSFETs
بواسطة: Chin, H.-C., وآخرون
منشور في: (2014) -
Novel III-V mosfet integrated with high-k dielectric and metal gate for future CMOS technology
بواسطة: LIN JIANQIANG
منشور في: (2010) -
Lattice-mismatched In0.4Ga0.6As Source/Drain stressors with In Situ doping for strained In0.53 Ga0.47 as channel n-MOSFETs
بواسطة: Chin, H.-C., وآخرون
منشور في: (2014) -
High-permittivity dielectric stack on gallium nitride formed by silane surface passivation and metal-organic chemical vapor deposition
بواسطة: Liu, X., وآخرون
منشور في: (2014)