Investigation of failure mechanisms for gallium nitride (GaN) based high-electron-mobility transistors (HEMTs)
This study investigates the failure mechanisms of Gallium Nitride (GaN) based high-electron-mobility transistors (HEMTs) under high electric field through reverse bias stress condition. The report presents a detailed literature review of the basic theoretical backgrounds and known failure mechanisms...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Hu, Shihao |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Ng Geok Ing |
التنسيق: | Final Year Project |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nanyang Technological University
2023
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/167112 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Studies of Gallium Nitride (GaN) based High Electron Mobility Transistors (HEMTs)
بواسطة: Ong, Zi Kai
منشور في: (2020) -
Studies of gallium nitride (GaN) based high electron mobility transistor (HEMTS)
بواسطة: Ong, Eugene Wei Han
منشور في: (2024) -
Studies of Gallium Nitride Electron Mobility Transistors (GaN HEMTs) and GaN Metal-Insulator-Semiconductor (GaN MISHEMT)
بواسطة: Lau, Sien Hui
منشور في: (2020) -
Studies of gallium nitride high electron mobility transistors (HEMTs)
بواسطة: Tie, Keven Guo Sheng
منشور في: (2022) -
Characterizations of GaN-based high-electron-mobility-transistors (hemts)
بواسطة: Wong, Wei Jie.
منشور في: (2012)