Optimizing of TiN barrier properties for CNT interconnects
This report aims to investigate the various parameters on optimizing of the Titanium Nitride (TiN) thin films to achieve low resistivity, fabrication of four point probe flip chip design and measurement of the flip chip interconnection resistance. Three controlled parameters are experimented in the...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Final Year Project |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2012
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/50111 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|