In situ trench etching and releasing technique of high aspect ratio beams using magnetically enhanced reactive ion etching

In situ trench etching and releasing technique of high aspect ratio beams using magnetically enhanced reactive ion etching

10.1116/1.1431961

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Kok, K.W., Yoo, W.J., Sooriakumar, K.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/70574
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

Investigation of in situ trench etching process and Bosch process for fabricating high-aspect-ratio beams for microelectromechanical systems
بواسطة: Kok, K.W., وآخرون
منشور في: (2014)

Characterization of deep trench etch recipe
بواسطة: Tay, Chin Tiong.
منشور في: (2008)

Reactive ion etching of transition-metal alloys
بواسطة: Akinaga, Hiro, وآخرون
منشور في: (2006)

Fabrication & characterization of high aspect ratio fine pitch deep reactive ion etched through-wafer electroplated copper interconnects
بواسطة: Dixit, Pradeep
منشور في: (2008)

Study of roughness evolution during reactive ion etching
بواسطة: Santosh Kumar Pani
منشور في: (2010)

Micromachining of silicon using ion beams and electrochemical etching
بواسطة: TAVERNIER EMMANUEL PIERRE
منشور في: (2010)

CHARACTERISATION AND DETERMINATION OF THE ETCHING PROFILE OF VIA/TRENCH OF SI-BASED PHOTONIC CRYSTAL
بواسطة: ONG KNG YIH
منشور في: (2019)

Microstructure array on Si and SiOx generated by micro-contact printing, wet chemical etching and reactive ion etching
بواسطة: Amro, Nabil A., وآخرون
منشور في: (2013)

Low-power, low-pressure reactive-ion etching process for silicon etching with vertical and smooth walls for mechanobiology application
بواسطة: Ashraf, M, وآخرون
منشور في: (2020)

Ion gun development/Ion beam etching and deposition system development
بواسطة: Ahn, Jaeshin
منشور في: (2008)

FABRICATION OF STAIRCASE STRUCTURE BY ANISOTROPIC DEEP REACTIVE ION SILICON ETCHING
بواسطة: CHONG WEE XUAN
منشور في: (2017)

Characterization of low-k dielectric trench surface cleaning after a fluorocarbon etch
بواسطة: Tan, Y.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Effects of volatility of etch by-products on surface roughness during etching of metal gates in Cl2
بواسطة: Hwang, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

TMAH etching of silicon and the interaction of etching parameters
بواسطة: Thong, J.T.L., وآخرون
منشور في: (2014)

Development and characterization of deep reactive ion etching technology for through silicon interconnection
بواسطة: Nagarajan, Ranganathan
منشور في: (2010)

Numerical prediction of etched profile in pyrolytic laser etching
بواسطة: Wee, T.S., وآخرون
منشور في: (2014)

Deep reactive ion etching of alumina titanium carbide using chlorine-based plasma
بواسطة: C. Pakpum, وآخرون
منشور في: (2018)

Deep reactive ion etching of alumina titanium carbide using chlorine-based plasma
بواسطة: Pakpum C., وآخرون
منشور في: (2017)

Design of reactive ion etching process based on ab-initio calculation - The first step-
بواسطة: Matsumoto, Shigeno, وآخرون
منشور في: (2007)

Sub-micron channeling contrast microscopy on reactive ion etched deep Si microstructures
بواسطة: Teo, E.J., وآخرون
منشور في: (2014)

Fabrication of size-tunable gold nanoparticles array with nanosphere lithography, reactive ion etching, and thermal annealing
بواسطة: Tan, B.J.Y., وآخرون
منشور في: (2014)

Vertical etching with isolated catalysts in metal-assisted chemical etching of silicon
بواسطة: Lianto, P., وآخرون
منشور في: (2014)

Numerical prediction of the etched profile in pyrolytic laser etching of silicon and gallium arsenide
بواسطة: Wee, T.-S., وآخرون
منشور في: (2014)

Three-dimensional microstructures in silicon via the combination of light-ion beam writing and electrochemical etching
بواسطة: Blackwood, D.J., وآخرون
منشور في: (2014)

Effects of O2 and Ar reactive ion etching on the field emission properties of aligned CuO nanowire films
بواسطة: Zhu, Y.W., وآخرون
منشور في: (2014)

Reactive ion etching of NiFe thin films from first-principles study: A case study
بواسطة: Watanabe, Susumu, وآخرون
منشور في: (2005)

Effect of thermocycling on the durability of etch-and-rinse and self-etch adhesives on dentin
بواسطة: Ketkamon Sangwichit, وآخرون
منشور في: (2018)

ETCHED SILICON COATED WITH POLYANILINE AS THE ANODE FOR LITHIUM-ION BATTERY
بواسطة: Haidar Hamid, Faiq

Investigation of etching properties of metal nitride/high-k gate stacks using inductively coupled plasma
بواسطة: Hwang, W.S., وآخرون
منشور في: (2014)

A Feasibility study on the glass etched clock by Etch R' Us, Corporation
بواسطة: Aldave, Mark Anthony Chavez, وآخرون
منشور في: (1997)

Wet etching of glass
بواسطة: Iliescu, C., وآخرون
منشور في: (2014)

Effects of poly-Si annealing on gate oxide charging damage in Poly-Si gate etching process
بواسطة: Chong, D., وآخرون
منشور في: (2014)

Integrated process of photoresist trimming and dielectric hard mask etching for sub-50 nm gate patterning
بواسطة: Bliznetsov, V., وآخرون
منشور في: (2014)

NANO-SCALE MACHINING OF SILICON USING ION IRRADIATION AND ELECTROCHEMICAL ETCHING
بواسطة: SONG JIAO
منشور في: (2014)

Fabrication of low loss silicon waveguides by ion irradiation and electrochemical etching
بواسطة: XIONG BOQIAN
منشور في: (2014)

Inductively coupled plasma etching of GaN using BCl3/Cl2 chemistry and photoluminescence studies of the etched samples
بواسطة: Remashan, K., وآخرون
منشور في: (2014)

Evolution of hillocks during silicon etching in TMAH
بواسطة: Thong, J.T.L., وآخرون
منشور في: (2014)

SILICON ETCHING USING TMAH
بواسطة: CHONG CHEE WAH
منشور في: (2020)

Formation of pyramids at surface of TMAH etched silicon
بواسطة: Choi, W.K., وآخرون
منشور في: (2014)

A comparison of the selective etching characteristics of conventional and low-temperature-grown GaAs over AlAs by various etching solutions
بواسطة: Zhao, R., وآخرون
منشور في: (2014)