Fabrication of nano-crystalline silicon thin film on flexible substrate by cathodic vacuum arc
2009 International Display Manufacturing Conference, 3D Systems and Applications, and Asia Display, IDMC/3DSA/Asia Display 2009
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Lin, T.-Y., Liao, Z.-J., Tsai, J., Chua, D., Peng, J.-L., Liu, C.-L., Mo, C.-N. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/75226 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Low-temperature fabrication of nanocrystalline silicon thin films on mechanically flexible substrates by vacuum arc discharge
بواسطة: Tsai, J.T.H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Fabrication of tin dioxide on silicon doxide substrate using Filtered Cathodic Vacuum Arc (FCVA) technique
بواسطة: Ji, Yun
منشور في: (2009) -
Characterization of thin films by filtered cathodic vacuum arc technology
بواسطة: Lau, Daniel Shu Ping, وآخرون
منشور في: (2008) -
Growth and characterization of oxide thin films by filtered cathodic vacuum arc and their applications
بواسطة: Zhao, Zhiwei
منشور في: (2008) -
Characterisation of ZnO thin films produced by filtered cathodic vacuum arc technique
بواسطة: Tse, Kit Yan.
منشور في: (2008)