Random telegraph signal noise in gate-all-around Si-FinFET with ultranarrow body
10.1109/LED.2006.880640
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Lim, Y.F., Xiong, Y.Z., Singh, N., Yang, R., Jiang, Y., Chan, D.S.H., Loh, W.Y., Bera, L.K., Lo, G.Q., Balasubramanian, N., Kwong, D.-L. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82964 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Platinum germanosilicide as source/drain contacts in P-channel fin field-effect transistors (FinFETs)
بواسطة: Lee, R.T.P., وآخرون
منشور في: (2014) -
Analysis of the effects of fringing electric field on finFET device performance and structural optimization using 3-D simulation
بواسطة: Zhao, H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Drive-current enhancement in FinFETs using gate-induced stress
بواسطة: Tan, K.-M., وآخرون
منشور في: (2014) -
Achieving conduction band-edge Schottky barrier height for arsenic-segregated nickel aluminide disilicide and implementation in FinFETs with ultra-narrow fin widths
بواسطة: Lee, R.T.-P., وآخرون
منشور في: (2014) -
Simulation of multiple gate FinFET device gate capacitance and performance with gate length and pitch scaling
بواسطة: Zhao, H., وآخرون
منشور في: (2014)