Lithography exposure characteristics of poly(methyl methacrylate) (PMMA) for carbon, helium and hydrogen ions
Poly(methyl methacrylate) is a common polymer used as a lithographic resist for all forms of particle (photon, ion and electron) beam writing. Faithful lithographic reproduction requires that the exposure dose, Θ, lies in the window Θ0 ≤ Θ < Θ×0, where Θ0 and Θ×0 represent the clearing and cr...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2014
|
| الوصول للمادة أونلاين: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-79951960125&partnerID=40&md5=28b6b6135971046c81edcd3cd26d35fd http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/6856 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|