Growth of gallium nitride nanowires by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
Group-III nitrides such as gallium nitride (GaN) have been intensively used for high power electronic, optoelectronic, RF power and sensor applications such as blue light emitting diodes (LEDs), high power and high voltage transistors, etc. In recent years, nanowires have gained interest due to the...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Wang, Jianbo |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Wang Hong |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/54694 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
High-quality doped polycrystalline silicon using low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
بواسطة: Padhamnath, P, وآخرون
منشور في: (2019) -
Study of chemical vapor deposited carbon nanotubes as electrical interconnect
بواسطة: Ng, Chou Shing
منشور في: (2013) -
Studies of Gallium Nitride (GaN) based High Electron Mobility Transistors (HEMTs)
بواسطة: Ong, Zi Kai
منشور في: (2020) -
Design and growth of high-power gallium nitride light-emitting diodes
بواسطة: Zhang, Zihui
منشور في: (2014) -
Chemical vapor deposition growth and transfer of two-dimensional hexagonal boron nitride
بواسطة: Chin, Warren Chee How
منشور في: (2015)