Copper micro and nano particles mixture for 3D interconnection application
Copper is a well-known material used for interconnections application. It offers economical advantage over silver and has high electrical conductivity. Studies on copper nano-paste (comprising of monodispersed nano-particles) application on surfaces have reported cracking and a low packing densit...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Dai, Yuan-Yuan |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Tan Chuan Seng |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2016
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/67807 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
Application of carbon nanotubes (CNTS) in copper/low k interconnects design
بواسطة: Loo, Shane Zhi Yuan
منشور في: (2010) -
Electromigration reliability of copper interconnect in submicron microelectronics application
بواسطة: Ang, Kian Ann
منشور في: (2008) -
Effect of stress migration on electromigration for nano scale advanced interconnects
بواسطة: Anson Heryanto
منشور في: (2012) -
Vertical-SI-nanowire based nonvolatile flash memory for 3-D ultrahigh density application
بواسطة: Sun, Yuan
منشور في: (2012) -
Reliability modeling for ULSI interconnects
بواسطة: Hou, Yue Jin
منشور في: (2010)