Optimal geometry for GeSi/Si super-lattice structure RBS investigation
10.1016/S0168-583X(01)01218-6
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Wielunski, L.S., Osipowicz, T., Teo, E.J., Watt, F., Tok, E.S., Zhang, J. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | PHYSICS |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/77474 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Determination of local lattice tilt in Si1-xGex virtual substrate using high resolution channeling contrast microscopy
بواسطة: Seng, H.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
Investigation of electrical properties of furnace grown gate oxide on strained-Si
بواسطة: Bera, L.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
High-resolution channeling contrast microscopy of compositionally graded Si1-XGeX layers
بواسطة: Seng, H.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
Micro-RBS study of nickel silicide formation
بواسطة: Seng, H.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
The CIBA high resolution RBS facility
بواسطة: Osipowicz, T., وآخرون
منشور في: (2011)