Deposition of polymeric nitrogenated amorphous carbon films (a-C:H:N) using electron cyclotron resonance CVD
10.1016/S0040-6090(98)01332-7
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Yoon, S.F., Rusli, Ahn, J., Zhang, Q., Yang, C.Y., Yang, H., Watt, F. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | PHYSICS |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/96172 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Metal-containing amorphous carbon film development using electron cyclotron resonance CVD
بواسطة: Rusli, H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Characteristics of nickel-containing carbon films deposited using electron cyclotron resonance CVD
بواسطة: Huang, Q.F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Characterization of doped hydrogenated amorphous carbon films using electron cyclotron resonance chemical vapour deposition (ECR-CVD) technique for electronic applications
بواسطة: Rusli.
منشور في: (2008) -
Hydrogenated amorphous silicon carbide deposition using electron cyclotron resonance chemical vapor deposition under high microwave power and strong hydrogen dilution
بواسطة: Chew, K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Effects of microwave power on the structural and emission properties of hydrogenated amorphous silicon carbide deposited by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition
بواسطة: Cui, J., وآخرون
منشور في: (2014)