Fabrication of InGaP high electron mobility transistors by electron beam technique
Recently, there has been great interest in the development of the InxGa|.xP material system as an alternative to AlyGai_yAs, for applications, such as in high electron mobility transistors, heterojunction bipolar transistors and diode lasers. This is attributed to the several advantages that InxG...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Gay, Boon Ping. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Yoon, Soon Fatt |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/4282 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
مواد مشابهة
-
InGaP grown on Ge (100) by molecular beam epitaxy: a spectroscopic ellipsometry study
بواسطة: D’Costa, Vijay Richard, وآخرون
منشور في: (2016) -
Fabrication and characterization of Algan/Gan high electron mobility transistors on silicon
بواسطة: Tham, Wai Hoe
منشور في: (2016) -
A study of InGaP/GaAs/InGaP composite collector double heterojunction bipolar transistor and GaAs delta-doped emitter bipolar junction transistor
بواسطة: Lew, Kim Luong.
منشور في: (2008) -
On-state reliability study of AlGaN/GaN high electron mobility transistor on silicon
بواسطة: Syaranamual, Govindo Joannesha
منشور في: (2018) -
High-Frequency Characteristics of InGaP/GaAs Double Heterojunction Bipolar Transistor Epitaxially Grown on 200 mm Ge/Si Wafers
بواسطة: Khai, L.W., وآخرون
منشور في: (2021)