Comparative study of current-voltage characteristics of Ni and Ni(Pt)- alloy silicided p+/n diodes
A comparative study of the I –V characteristics of p+/n diodes silicided with a pure Ni and Ni(Pt) alloy has been performed. Higher saturation currents as well as abnormal reverse I –V characteristics were observed for some of the diodes which were silicided with pure Ni at 700 °C while good I –V ch...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Mangelinck, D., Lahiri, S. K., Chi, Dong Zhi, Lee, Pooi See, Pey, Kin Leong |
---|---|
مؤلفون آخرون: | School of Materials Science & Engineering |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2012
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/79897 http://hdl.handle.net/10220/8105 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
On the morphological changes of Ni- and Ni(Pt)-silicides
بواسطة: Mangelinck, D., وآخرون
منشور في: (2012) -
Effect of ion implantation on layer inversion of Ni silicided poly-Si
بواسطة: Mangelinck, D., وآخرون
منشور في: (2012) -
Laser induced Ni(Ti) silicide formation
بواسطة: Setiawan, Y., وآخرون
منشور في: (2012) -
Effect of Ti alloying in nickel silicide formation
بواسطة: Setiawan, Y., وآخرون
منشور في: (2013) -
Layer inversion of Ni(Pt)Si on mixed phase Si films
بواسطة: Osipowicz, T., وآخرون
منشور في: (2012)