Reverse short channel effects in nMOSFETs
Rapid advancement of the Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) transistor in the last two decades has seen the approach of the 0.18um technology. However, this has caused phenomena that had not been previously observed. Two of these are the Reverse Short Channel Effects (RSCE) and the Transient Enhanced D...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lee, Teck Koon. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Liu Po-Ching |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/13234 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
Correlation of Electronic and Thermal Properties of Short Channel nMOSFETS
بواسطة: Palaniappan, M., وآخرون
منشور في: (2014) -
Degradation of high-frequency noise in nMOSFETs under different modes of hot-carrier stress
بواسطة: Liao, Hong, وآخرون
منشور في: (2013) -
Analysis of correlated gate and drain random telegraph noise in post-soft breakdownTiN/HfLaO/SiOx nMOSFETs
بواسطة: Liu, Wenhu, وآخرون
منشور في: (2014) -
Analytical high frequency channel thermal noise modeling in deep sub-micron MOSFETs
بواسطة: Ong, Shih Ni, وآخرون
منشور في: (2010) -
Experimental and analytical characterization of short channel MOSFETS
بواسطة: Yeo, Kiat Seng
منشور في: (2008)