Multiple-pulse laser thermal annealing for the formation of Co-silicided junction
Formation of Co-silicide contact layers on narrow silicon regions using multiple-pulse excimer laser annealing is demonstrated. Excellent performance of junction leakage behavior can be attained on narrow-wi...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2012
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/95649 http://hdl.handle.net/10220/8339 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Nanyang Technological University |
| اللغة: | English |