Fabrication of microfluidic devices using MeV ion beam Programmable Proximity Aperture Lithography (PPAL)
MeV ion beam lithography is a direct writing technique capable of producing microfluidic patterns and lab-on-chip devices with straight walls in thick resist films. In this technique a small beam spot of MeV ions is scanned over the resist surface to generate a latent image of the pattern. The micro...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2014
|
| الوصول للمادة أونلاين: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-44449134554&partnerID=40&md5=6fe3d1a57fd1c2f717633f38d40e4b5b http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/5578 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Chiang Mai University |
| اللغة: | English |