The gate leakage current in graphene field-effect transistor
IEEE Electron Device Letters
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Mao, L.-F., Li, X.-J., Wang, Z.-O., Wang, J.-Y. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/86787 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
The gate leakage current in graphene field-effect transistor
بواسطة: Mao, L.-F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Computational study of double-gate graphene nano-ribbon transistors
بواسطة: Liang, G., وآخرون
منشور في: (2014) -
Graphene nanoribbon tunneling field-effect transistors with a semiconducting and a semimetallic heterojunction channel
بواسطة: Da, H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Strained germanium-tin (GeSn) p-channel metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors (p-MOSFETs) with ammonium sulfide passivation
بواسطة: Wang, L., وآخرون
منشور في: (2014) -
Characterization of gate charging N-channel mosfet to determine the effects of different gate bias voltages and temperature conditions
بواسطة: Garcia, Rommel Galang
منشور في: (2008)