Characterization and modeling of negative bias temperature instability in P-MOSFETs
This thesis is concerned with the study of negative bias temperature instability (NBTI) in p-MOSFETs. A simple characterization method based on the single-point measurement of the saturated drain current is first proposed to minimize the unwanted recovery effect during the NBTI measurement. A study...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Yang, Jianbo |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Chen Tupei |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2010
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/35246 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
Characterization of negative bias temperature instability in ultra-thin oxynitride gate P-MOSFETs
بواسطة: Wang, Shuang
منشور في: (2009) -
Negative-bias temperature instability (NBTI) characterization of MOSFETS employing decoupled-plasma-nitrided gate oxides
بواسطة: Lai, Simon Chung Sing
منشور في: (2011) -
Bias temperature instability of nano-scale silicon transistors
بواسطة: Ho, Terence Jun Jie
منشور في: (2014) -
Evolution of hole trapping in the oxynitride gate p-MOSFET subjected to negative-bias temperature stressing
بواسطة: Boo, A. A., وآخرون
منشور في: (2013) -
Correlation between oxide trap generation and negative-bias temperature instability
بواسطة: Boo, A. A., وآخرون
منشور في: (2013)