Synthesis and characterization of metal silicides nanostructures
Metal silicides have been used extensively in microelectronics devices, such as contacts and local interconnects. With increasing research and development of a bottomup fabrication approach for semiconducting and metallic nanostructures, metal silicides nanostructures can continue to play an importa...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Li, Shaozhou. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | School of Materials Science & Engineering |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/51007 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
مواد مشابهة
-
Development of metal silicides for deep submicron polycrystalline silicon gate
بواسطة: Pang, Chong Hau
منشور في: (2008) -
Nanomaterials : synthesis, processing and characterization
بواسطة: Boey, Freddy Yin Chiang.
منشور في: (2009) -
Physical properties of 1-D ZnO-based nanostructures
بواسطة: Pang, Christina Ai Lin
منشور في: (2009) -
Tantalum-based diffusion barriers for copper metallization
بواسطة: Khin Maung Latt.
منشور في: (2008) -
Cu metallization and dielectric removal for failure analysis of ICs
بواسطة: Siah, Yu Wen.
منشور في: (2012)