Device physics and design of germanium tunneling field-effect transistor with source and drain engineering for low power and high performance applications
10.1063/1.2924413
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Toh, E.-H., Wang, G.H., Samudra, G., Yeo, Y.-C. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/55626 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Device physics and guiding principles for the design of double-gate tunneling field effect transistor with silicon-germanium source heterojunction
بواسطة: Toh, E.-H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Device design and scalability of a double-gate tunneling field-effect transistor with silicon - germanium source
بواسطة: Toh, E.-H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Device physics and design of a L-shaped germanium source tunneling transistor
بواسطة: Low, K.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
Source engineering for tunnel field-effect transistor: Elevated source with vertical silicon-germanium/germanium heterostructure
بواسطة: Han, G., وآخرون
منشور في: (2014) -
ADVANCED SOURCE AND DRAIN CONTACT ENGINEERING FOR GERMANIUM-TIN AND SILICON-GERMANIUM TRANSISTORS
بواسطة: XU HAIWEN
منشور في: (2023)