Near-infrared spectroscopic photon emission microscopy of 0.13 μm silicon nMOSFETs and pMOSFETs
10.1109/IPFA.2008.4588178
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Tan, S.L., Teo, J.K.J., Toh, K.H., Isakov, D., Chan, D.S.H., Koh, L.S., Chua, C.M., Phang, J.C.H. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/71104 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Investigation on the thermal distribution of nMOSFETs under different operation modes by scanning thermal microscopy
بواسطة: Hendarto, E., وآخرون
منشور في: (2014) -
Near-IR photon emission spectroscopy on strained and unstrained 60 nm silicon nMOSFETs
بواسطة: Tan, S.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
Correlation of Electronic and Thermal Properties of Short Channel nMOSFETS
بواسطة: Palaniappan, M., وآخرون
منشور في: (2014) -
Effects of microtrenching from polysilicon gate patterning on 0.13μm MOSFET device performance
بواسطة: Chua, C.S., وآخرون
منشور في: (2014) -
Reverse short channel effects in nMOSFETs
بواسطة: Lee, Teck Koon.
منشور في: (2008)